Infrastruktura Badawcza


Laboratoria

  • Laboratorium Oddziaływania Promieniowania Laserowego z Materią – rozbudowane w ramach projektu OPTOLAB
  • Laboratorium oddziaływania impulsów laserowych wielkiej mocy z materią
  • Laboratorium oddziaływania impulsów laserowych dużej energii z materią
  • Laboratorium mikro- i nanoobróbki promieniowaniem EUV
  • Laboratorium nanoobrazowania promieniowaniem EUV/SXR
  • Laboratorium mikroskopii elektronowej

Aparatura

Zespół dysponuje między innymi następującą aparaturą badawczą:

  • Skaningowy mikroskop elektronowy Vega//SBU, firmy Tescan;
  • Systemu skaningowego mikroskopu elektronowego Quanta 3D FEG, firmy FEI Company;
  • System femtosekundowego lasera tytano-szafirowego firmy Amplitude Technologies;
  • System nanosekundowego lasera Nd:YAG NL129 firmy Expla;
  • Laserowo-plazmowe źródło skrajnego nadfioletu (EUV) do modyfikacji powierzchni;
  • Spektrometr EUV - McPherson, model 251;
  • 4 próżniowe stanowiska badawcze;